PingWest品玩12月11日讯，据anandtech音讯，英特尔在IEEE世界电子设备会议（IEDM）上发布了未来十年制作工艺扩展路线图，将在2029年完成1.4纳米芯片。
从2019年的10纳米工艺开端，到2021年转向7纳米EUV（极紫外光刻），2023年选用5纳米，2025年3纳米，2027年2纳米，终究到2029年的1.4纳米。1.4纳米巨细相当于12个硅原子。在两代工艺节点之间，会引进+和++工艺迭代版别。因为现在现已处于10+版别阶段，所以2020年和2021年会直接呈现10++和10+++版别。
英特尔在十年路线图提到了“反向移植”（back porting）。反向移植是芯片规划时考虑的一个进程节点才能，即任何第一代7纳米规划能够反向移植到10++版别上，任何第一代5纳米规划能够反向移植到7++版别上，然后是3纳米反向移植到5++，2纳米反向移植到3++上，依此类推。